X-ray_birefringence_imaging
X線複屈折イメージング（XBI）は、偏光光学顕微鏡のX線アナログと見なすことができます。XBIは、元素吸収端に調整されたエネルギーを持つ直線偏光X線を使用します。調整されたX線は吸収要素とのみ相互作用するため、X線吸収要素の結合環境の局所的な異方性を調べることができます。 直線偏光された調整可能なX線が必要なため、シンクロトロンソースが必要です。サンプル内の選択された要素の結合環境との相互作用により、入射X線偏光面が変化します。偏光アナライザーは、偏光面の回転成分を面積検出器に回折するために使用されます。偏光面の垂直成分が大きいほど、検出器で観察される強度が大きくなります。このようにして、X線吸収要素を含む結合環境の分布を空間的に分解して研究することが可能です。
X線複屈折イメージング実験中にX線偏光面がどのように変化するかを示します
XBI手法は、異方性材料の局所的な配向特性を空間的に分解してマッピングするための高感度な方法であることが示されています。有機材料の場合、この手法は個々の分子や結合の配向特性を研究するために適用できます（これまでの手法のほとんどのアプリケーションは、実行されたXBI測定からのC–Br結合の配向秩序の研究に焦点を合わせてきました。臭素K吸収端に調整された入射直線偏光X線を使用）。この手法の応用には、固体の秩序-無秩序相転移に関連する分子配向の変化の研究や、液晶材料の相転移の特性評価が含まれています。 XBIは、材料内の配向的に異なるドメインの空間分解分析にも利用でき、ドメインのサイズ、ドメイン間の配向関係、およびドメイン境界の性質に関する情報を提供します。
参考文献
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